鋁陽極氧化表面處理 | 鋁合金表面處理方式-陽極氧化及化學氧化區別
鋁合金氧化
因為工作中和鋁合金散熱器打交道,涉及導柜內器件導電,保證人身安全,所有柜內器件需要保證良好的接地效果,另一種說法是可以減少EMC干擾,為此搜集了一些關于鋁合金氧化層的信息,提供大家作為知識儲備。
鋁本身自然氧化:在空氣中能自然形成一層厚度約為0.01~0.1μm的氧化膜,這層氧化膜是非晶態的,薄而多孔,耐蝕性差。
化學氧化(導電氧化):膜層厚度一般為0.3-4μm,質軟、耐磨和抗腐蝕性均低于陽極氧化膜除特殊用途外,很少使用。
陽極氧化:膜層厚度一般為5-20μm,硬質膜層可達60-200μm(陽極氧化處理的對象可以是鋁及鋁合金、鎂合金、鈦及鈦合金等,市場上應用最廣、發展速度最快的是鋁及鋁合金的陽極氧化)
陽極氧化膜層特點:
較高的硬度
純鋁氧化膜的硬度比鋁合金氧化膜的硬度高,通常它的硬度大小與鋁的合金成份、陽極氧化時電解液的工藝條件有關。陽極氧化膜不僅硬度較高,而且有較好的耐磨性,尤其是表面層多孔的氧化膜具有吸附潤滑劑的能力,還可進一步改善表面的耐磨性能。
較高的耐蝕性
經測試,純鋁的陽極氧化膜比鋁合金的陽極氧化膜耐蝕性好,這是由于合金成分夾雜或形成金屬化合物不能被氧化或被溶解,而使氧化膜不連續或產生空隙,從而使氧化膜的耐蝕性大為降低。所以,一般經陽極氧化后所得的膜必須進行封閉處理,才能提高其耐蝕性能。
有較強的吸附能力
鋁及鋁合金的陽極氧化膜為多孔結構,具有很強的吸附能力,所以給孔內填充各種顏料、潤滑劑、樹脂等可進一步提高鋁制品的防護、絕緣、耐磨和裝飾性能。
有很好的絕緣性能
鋁及鋁合金的陽極氧化膜,已不具備金屬的導電性質,而成為良好的絕緣材料。
有較強的絕熱、抗熱性
這是因為陽極氧化膜的導熱系數大大低于純鋁,陽極氧化膜可耐溫1500℃左右,而純鋁只能耐660℃。
陽極氧化的流程圖:
上件→機械拋光→除油→水洗→酸洗→水洗→堿洗→水洗→中和→除灰→水洗→化學拋光→水洗→陽極氧化→水洗→封孔→水洗→烘干→下件→檢查→包裝→入庫
在陽極氧化進行之前,要先對鋁型材進行預處理,機械拋光是為了磨平鋁型材表面的毛刺、針孔等缺陷
除油是為了去除鋁型材表面的油污與雜質
再經過酸洗水洗和堿洗水洗然后再中和,需要注意的是正確的順序是要先進行酸洗,以去除附著的重金屬離子和無機鹽,再進行堿洗,以消除有機物和微生物,如果先進行堿洗,使金屬離子沉積下來再進行酸洗就起不到作用了
酸堿中和后進一步去除鋁型材表面的油污和灰塵,再放入化學拋光液中進行化學拋光,使鋁型材表面更加平整光滑,為后面獲得更好的陽極氧化膜奠定基礎
膜層封閉:
鋁合金表面生成的多孔膜層有很強的吸附能力,表面容易被污染。特別是在腐蝕性環境中,腐蝕介質進入孔內容引起腐蝕,影響外觀和使用性能。因此經過陽極氧化的氧化膜層不管著色與否,都要進行封閉處理,以提高氧化膜的抗蝕性、耐磨性等。
封孔處理按封孔原理可分為以下兩種:
填充封孔:這類封孔主要采用一些惰性物質,如熔化狀態的脂類、凡士林、石臘,或一些成膜性能優良的液態物質、油漆、干性油等。這類封孔是以固體成分直接填充在氧化膜空隙中以達到封孔的目的。這類封孔的特征:封孔物質不和氧化膜內的鋁氧化物發生化學反應,同時自身也不發生化學反應。這一方法操作過程比較復雜,且對環境安全防火有較高要求,同時在封孔前也需要對封孔鋁工件進行干燥處理,不便于規模量產。所以這一方法目前很少有使用,只有在對耐蝕性有特殊要求才會采用。
反應封孔:這類封孔是采用水、無機鹽水溶液對氧化膜的空隙進行封閉的處理方法。這類封孔方法的特征是:封孔介質和氧化膜的鋁氧化物及水發生化學反應,使空隙內氧化物吸水膨脹或封孔劑中金屬離子水解生成不溶性物沉積在空隙內共同完成封孔過程,這一方法由于操作簡單,易于控制,是目前陽極氧化加工廠采用最多的方法。
合金陽極氧化局部保護方法如下:
蠟涂法:在鋁合金表面需要局部保護的部位涂抹一層蠟,避免其被氧化液浸泡而產生氧化。
膠條遮蓋法:在鋁合金表面需要局部保護的部位鋪設一層膠條,杜絕氧化液通過膠條對該部位的影響。
防蝕涂層法:在鋁合金表面需要局部保護的部位涂覆一層防腐涂料以防止其被氧化液侵襲。
直流電流保護法:通過施加電流,在鋁合金表面需要局部保護的部位與陽極氧化池相連的鋁合金制品正在進行氧化處理的鋁件保持電位一致,避免其被氧化液襲擊。
陽極氧化的方法:
鋁型材陽極氧化的主要方法有三種:硫酸陽極氧化、草酸陽極氧化和鉻酸陽極氧化,每種方法都有不同的工藝參數、不同的特點以及優勢與劣勢,一般情況下,陽極氧化就是指的硫酸陽極氧化方法
1、硫酸陽極氧化
硫酸陽極氧化的主要工藝參數(直流電)
工藝項目 | 指標范圍 | 說明 |
氧化電壓 | 12-18V | 當電壓降低時,膜層厚度與硬度會降低。 |
電流密度 | 1-1.6A/dm3 | 電流密度過高時,型材表面附著力會下降,耐腐蝕性與耐磨性都下降,導致封孔效果不佳。 |
槽液溫度 | 18-22℃ | 當槽液的溫度上升時,膜厚與硬度降低,表面附著力上升。 |
硫酸濃度 | 15-200g/L | 當硫酸濃度降低時,型材表面的附著力下降,而膜厚與硬度會上升。 |
鋁離子濃度 | <20g/L | 當鋁離子濃度偏高時,氧化膜的吸附能力下降,工業鋁型材表面出現白斑。 |
氧化時間 | 20-30min | 當氧化時間減小時,耐腐蝕性與吸附能力下降,硬度會上升。 |
2、草酸陽極氧化
草酸陽極氧化的主要工藝參數(以英美法為準)
工藝項目 | 指標范圍 | 說明 |
氧化電壓 | 50-65V | 草酸陽極氧化可采用直流電、交流電或直流與交流電疊加,不過直流電容易出現膜層孔蝕,交流電的膜層抗腐蝕性較高,但著色效果不佳,不同的合金材料的工業鋁型材采用草酸陽極氧化所獲得膜層的厚度和顏色不同。 |
電流密度 | DC1-1.5A/dm3 | |
槽液溫度 | 30℃ | |
草酸濃度 | 5-10% | |
氧化時間 | 10-30min | |
膜厚 | 15μm |
3、鉻酸陽極氧化
鉻酸陽極氧化的主要工藝參數(直流電)
尺寸偏差小的拋光零件 | 一般零件或焊接件 | 說明 | ||
工藝項目 | 指標范圍 | 工藝項目 | 指標范圍 | 用3-10%濃度的鉻酸陽極氧化方法,獲得的氧化膜只有2-5μm,比前二種方法都要薄,可保持原有材料的抗拉強度,不過耐磨性較差,不易染色,一般適合于對尺寸偏差小的加工零件、鈑金件,以及用硫酸難以加工的高難度鑄件,對于含銅量大于4%的工業鋁型材產品不適合用鉻酸陽極氧化處理方法。 |
鉻酸酐CrO?濃度 | 0-35g/L | 鉻酸酐CrO?濃度 | 95-100g/L | |
氧化電壓 | 0-40V | 氧化電壓 | 0-40V | |
電流密度 | 0.2-0.6A/dm3 | 電流密度 | 0.3-0.5A/dm3 | |
槽液溫度 | 40±2℃ | 槽液溫度 | 37±2℃ | |
氧化時間 | 60min | 氧化時間 | 35min | |
陰極材料 | 鉛板或石墨 | 陰極材料 | 鉛板或石墨 | |
pH值 | 0.65-0.8 | pH值 | <0.8 | |
陰陽極面積比 | 3:1 |
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